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磨料在cmp作用在拋光液中

來源：m.fxjr.com.cn  |  發(fā)布時間：2022年11月29日
  拋光劑是cmp拋光液的主要成分。在拋光過程中，它通過微切割.微刮擦.工件表面采用滾壓等功能，實(shí)現(xiàn)機(jī)械去除材料的功能。

  上海鈰基拋光液供應(yīng)商根據(jù)磨料成分，拋光液一般分為單磨料拋光液.混合磨料拋光液和復(fù)合磨料拋光液研磨劑在cmp拋光過程中的功能是：

  1.機(jī)械動作的實(shí)施者起到機(jī)械研磨的作用；

  2.材料傳輸?shù)墓δ懿粌H是在拋光墊和拋光材料之間傳輸新鮮的漿料，還可以去除材料表面的反應(yīng)物，泄漏材料的新表面，進(jìn)一步減少反應(yīng)。


上海鈰基拋光液


  因此，在選擇上cmp拋光液時，記得要考慮良好的分散性.流動性好.拋光液產(chǎn)品硬度適中，易于清洗。

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