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影響鈰基拋光材料光學(xué)拋光的因素

來(lái)源：m.fxjr.com.cn  |  發(fā)布時(shí)間：2022年08月08日
  影響鈰基拋光材料光學(xué)拋光的因素

  在鈰基拋光材料光學(xué)拋光處理中，選擇合理的運(yùn)動(dòng)模式和拋光路徑是重要的一步，拋光運(yùn)動(dòng)主要是實(shí)現(xiàn)磨削運(yùn)動(dòng)，因此運(yùn)動(dòng)狀態(tài)將直接影響拋光過(guò)程的精度和生產(chǎn)效率，因此，在平面拋光機(jī)拋光過(guò)程中，鈰基拋光材料拋光運(yùn)動(dòng)應(yīng)滿足以下幾點(diǎn)：


鈰基拋光材料


  1.加工工件時(shí)，整個(gè)拋光運(yùn)動(dòng)要從頭到尾平穩(wěn)。

  2.拋光運(yùn)動(dòng)的目的是保障工件能夠均勻地接觸到拋光輪的整個(gè)表面。

  3.所選的拋光運(yùn)動(dòng)應(yīng)使軌跡有規(guī)律地改變方向，盡早避免重復(fù)。

  4.在拋光運(yùn)動(dòng)過(guò)程中，拋光運(yùn)動(dòng)還應(yīng)根據(jù)不同的拋光工藝需要選擇理想的運(yùn)動(dòng)拋光速度。

  5.在拋光運(yùn)動(dòng)過(guò)程中，磨具和工件應(yīng)處于懸浮狀態(tài)，而不是受限制。

  6.拋光運(yùn)動(dòng)應(yīng)保障工件拋光均勻，即工件表面各點(diǎn)之間的距離應(yīng)盡可能相等。

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